Подложка за силиконова вафла

Подложка за силиконова вафла

Нашите първокласни дискови субстрати със силициеви пластини са проектирани да осигурят здрава и ултра{0}}стабилна основа за усъвършенствано производство на полупроводници. Покриващи всички стандартни диаметри от2-инча (50 мм) до 12-инча (300 мм), тези субстрати са предпочитаният избор за леярни и IDM, фокусирани върху високо{0}}производството на електронни устройства.

Основни технически предимства:

Електронна-чистота:Ние предоставяме 100% полупроводников-клас (EG) силиций с водещи в индустрията-нива на чистота, гарантиращи превъзходна мобилност на носителя и стабилна работа на устройството без риск от кръстосано-замърсяване.

Микрон{0}}прецизност на ниво:Всеки диск се обработва, за да отговаря на стриктните спецификации за пълна дебелина (TTV) и деформация, което позволява високо-прецизна фотолитография и сложно много-слоево отлагане.

Изключителна еднородност на материала:Ние гарантираме постоянно съпротивление и съдържание на кислород/въглерод в целия материал, като гарантираме повтарящи се резултати в големи{0}}мащабни производствени партиди.

Структурна надеждност:Проектирани да запазят своята цялост при екстремно висока-температура на отгряване и механичен стрес, нашите субстрати са оптимизирани заЗахранващи устройства (IGBT/MOSFET), радиочестотна микроелектроника и MEMS.

Популярни тагове: субстрат за диск със силициеви пластини, Китай субстрат за дискове със силициеви пластини, производители, доставчици, фабрика