Каква е разликата между полирани силициеви пластини и епитаксиални пластини?

Според класификацията на употребата, полупроводниковите силициеви пластини могат да бъдат разделени на полирани пластини, закалени пластини, епитаксиални пластини, изолационни пластини за свързване и силициеви пластини от висок клас, представени от силициеви пластини SOI. И така, каква е разликата между полирани силициеви пластини и епитаксиални пластини?
Полираните пластини могат да се използват за направата на чипове памет, захранващи устройства и субстратни материали за епитаксиални пластини. Епитаксиалната пластина е слой от монокристален силиций, нараснал върху полирана пластина. Обикновено се използва в производството на общи процесорни чипове, диоди и igbt захранващи устройства. Тъй като оригиналните полиращи частици са фини и размерът на частиците е по-малък от дължината на вълната на видимата светлина, те са равномерно разпределени, за да образуват прозрачен или полупрозрачен полиращ филм.